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日本高校制造出只有一个原子厚的硅薄膜

本文摘要:日本北陆尖端科学技术大学院大学30日宣告,其研究小组研发出能制作大面积硅薄膜silicene的技术。这种只有一个原子薄的薄膜,可不具备半导体的性质,未来将会用作生产高速电子线路等。 研究小组在1厘米宽、1厘米长的硅基板表面,覆盖面积上陶瓷薄膜,然后在类似真空装置中将其冷却到900摄氏度。于是,硅基板含有的硅元素就击穿陶瓷薄膜,经常出现在陶瓷薄膜表面,构成硅薄膜。如果将基板做到得更大,就可以制作出有更大面积的硅薄膜。

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日本北陆尖端科学技术大学院大学30日宣告,其研究小组研发出能制作大面积硅薄膜silicene的技术。这种只有一个原子薄的薄膜,可不具备半导体的性质,未来将会用作生产高速电子线路等。

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  研究小组在1厘米宽、1厘米长的硅基板表面,覆盖面积上陶瓷薄膜,然后在类似真空装置中将其冷却到900摄氏度。于是,硅基板含有的硅元素就击穿陶瓷薄膜,经常出现在陶瓷薄膜表面,构成硅薄膜。如果将基板做到得更大,就可以制作出有更大面积的硅薄膜。  只有一个碳原子薄的石墨烯是目前为止世界上最厚的材料,它的发明者因为这种不具备诸多神秘性质的材料取得了2010年诺贝尔物理学奖。

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silicene被誉为硅版石墨烯而受到物理学界的注目。  研究小组带头人、北陆尖端科学技术大学院大学副教授高村由起子认为:今后的课题是搞清楚silicene的构成机制,并研发出有将这种薄膜从基板上挤压下来的技术。


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